在硅片上涂覆光刻胶。粘合剂或硅片放置在惰性气体中进行热处理。该工艺旨在提高光刻胶与硅片之间的附着力，防止显影时间的延长，防止湿腐蚀过程。使用粘合剂的防腐剂。首先，采用真空法从胶粘机上的硅---上抽油，将吴定量的粘性光刻胶涂在表面，然后时间设定涂层的速度和旋转速度。在离心力作用下，光刻胶表面均匀分散，去除多余的光刻胶，获得吴定厚度的光刻胶膜。胶厚控制胶的粘度和橡胶的速度，预干燥由于溶剂缓蚀剂作用，在80℃的硅片上，防腐剂是干的。微波炉是吴种惰性气体，干燥时间通常在15-30分钟之间的光刻胶清除器。
干燥结束后应先关闭干燥箱电源，开启放气阀，解除箱内真空状态，再打开箱门取出物品。(解除真空后，如密封圈与玻璃门吸紧变形不易立即打开箱门，经过一段时间后，等密封圈恢复原形后，才能方便开启箱门。
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采用微电脑---温度控制器，按上下键即可输入参数，设定方便简单，低温烤箱厂家，同时显示设定温度测量，提供之恒温条件，以利于试验或干燥之进行。
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精密烤箱内热循环，烘烤物件受热均匀。
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